3. 電鍍?nèi)芤旱呐浞胶凸に嚄l件

 

3.1 化學油去除

 

無磷洗滌劑(優(yōu)質(zhì))50~80克/升,碳酸鈉5~10克/升,60~100°c,直至清潔。

 

無磷洗滌劑是一種獨特的表面活性劑,主要成分是一種電子表面活性劑、非離子表面活性劑、染色懸浮劑和美白劑,包括輔助保護等。  因此,用這種洗滌劑配制的除油溶液具有特殊的功能,可以去除鋅壓鑄表面的蠟和其他污漬,迅速分解各種污漬,可以去除污垢。  放入凹槽時,可在約 5 分鐘內(nèi)完全拆下工件,而不會造成基板腐蝕,因此可以保持表面清潔。  此外,由于洗滌劑不使用磷酸鹽作為輔助物,它不會導致水體富營養(yǎng)化。

 

氫氟酸是弱酸性的,在HF水溶液中加入H2so(或HNO、HBO等)時作用穩(wěn)于穩(wěn)態(tài)。

 

3.2 腌制激活

 

氫氟酸 15 ~ 2 OML,硫酸鹽 5 ~ 10 mij,L,室溫,3 ~ 5 S。

 

3.3 化學浸漬鎳

 

氯化鎳 4 o = 50 g/L,檸酸鈉 90 ~ 100 g/L,氯化銨 45 × 55 g/L,低磷酸鈉 1 o = 12 g/L,ph 值 8。  5 至 9.5,80 至 9 O° C.,5 至 10 分鐘

 

雖然有兩種類型的化學浸漬(電鍍)鎳酸性和堿性,鋅合金壓鑄比酸性化學浸漬鎳更有效使用堿性化學浸漬鎳。  后者容易腐蝕基材,即鎳層開花的現(xiàn)象,但這項技術已經(jīng)克服了這種邪惡。

 

3.4 中性鎳電鍍

 

硫酸鎳 160 ~ 180 g/L,檸酸鈉 180 ~ 200 g/L,氯化鈉 1 o = 15 g/L,硼酸 2 o = 30 g/L,單寧酸 0.4 ~ 0.6 g/L,ph6.5 = 7。 0,室溫,0.4至1.0 A/DM,15分鐘,陰極轉(zhuǎn)移。

 

加入單寧酸主要遮蔽鋅,進一步細化電鍍層的晶體,降低鎳層的孔隙度。

 

3.5 光澤鎳電鍍

 

硫酸鎳 250 ~ 300 g/L,氯化鈉 15 ~ 20 g/L,硼酸 3 o = 40 g/L,1, 4 氯丁二醇 0.4 = 0.5 g/L,糖精 0.8 ± 1.0 g/L,硫酸鈉 0.05 ~ 0.10 g/L, PH 值 4.0 = 5.1,50 ± 55 °c,2 至 3 A/DM,15 分鐘,陰極轉(zhuǎn)移。

 

該配方是一種通用全光鍍鎳技術。

 

3.6 復合鍍鉻

 

無水鉻250~300克/升,氟硅酸鹽4~6克/升,硫酸1.0~1.5克/升,三價鉻2~6克/升,45~55°c,15~30安/升,1.0~1.5分鐘,陽極為鉛錫合金。

 

復合鍍鉻也稱為氟硅酸鹽鉻電鍍。  該技術旨在克服鋅合金壓鑄復合體形狀(即凹槽中大量孔)的普通鉻的"露黃"現(xiàn)象。 硅酸鹽電鍍?nèi)芤旱年帢O膠體膜比只含硫酸的普通鉻電鍍?nèi)芤旱年帢O膠體膜薄得多,鉻層鈍化趨勢小,溫度低,在低電流密度下可獲得明亮的電鍍層,液體溫度升高,范圍較廣。  因此,復合鉻電鍍技術特別適用于鋅合金壓鑄的裝飾電鍍。